На мероприятии 2011 Investors Meeting, которое состоялось на этой неделе, компания Intel решила раскрыть свои планы развития на ближайшие несколько лет. Так стала доступна общественности информация о переносе начала продаж смартфонов, базирующихся на платформе Medfield, на 2012 год, хотя по предварительным данным они должны были появиться на рынке уже в текущем году.
Помимо этого, достаточно детально были описаны планы развития платформы с низким энергопотреблением Atom вплоть до 2014 года. Еще до концы текущего года планируется переход к впуску микропроцессоров для смартфонов, неттопов и нетбуков в соответствии с технологически более совершенным 32 нм техпроцессом. Обновленный вариант архитектуры будет выпускаться под кодовым наименованием Saltwell. Начало производства однокристальных систем Atom по 32 нм технормам запланировано на четвертый квартал текущего года.

В ходе мероприятия стали известны и более дальние перспективы, так подтвердились данные о том, что уже в 2013 году компания Intel попытается наладить выпуск чипов Atom с архитектурой Silvermont в соответствии с 22 нм техпроцессом. В этих моделях Atom будет реализован принцип внеочередного исполнения инструкций, который повысит их производительность. Еще одним новшеством будет использование новой объемной структуры транзисторов Tri-Gate, что позволит несколько снизить энергопотребление для улучшения позиций продукции компании Intel относительно активно набирающей темпы ARM.
А уже в 2014 году запланирован переход к 14 нм техпроцессу при производстве энергоэффективных микропроцессоров Atom, эта новая архитектура будет носить кодовое имя Airmont.

В текущем месяце компания Intel раскрыла свои планы освоения новых, более совершенных, стандартов фотолитографического процесса, а ведь предыдущий раз о планах Intel мы слышали всего месяц назад. Новая информация поддерживает предыдущие данные и немного расширяет временной диапазон прогноза, так в начале мая общественность узнала о перспективах развития фотолитографической технологии до 2015 года, когда Intel планирует перейти к 10 нм техпроцессу производства чипов.

На днях компанией Intel было организовано мероприятие под названием Research@Intel. В ходе этого мероприятия ведущие специалисты компании поведали о грядущих нововведениях и технологиях, которые будут использоваться в ближайшем будущем. Роадмап освоения следующих ступеней фотолитографического процесса в ходе мероприятия был раскрыт ещё на более длительный срок, уже не до 2015 года, а до 2017 года, причем стоит отметить что по плану к этому времени компанией будут освоены технологические нормы 7 нм.
Хотя стоит заметить, что даже рамки списка технологий, которые сделают возможным функционирование полупроводниковых схем со столь малым шагом литографического техпроцесса, ещё не до конца определены. В планах Intel на этом десятилетие присутствуют такие этапы, как использование соединений германия, оптических межсоединений, вычислительной литографии, нановолокон и синтезируемых на молекулярном уровне сверхсовременных материалов.